PVD表面处理介绍: 1. PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 2. PVD镀膜技术的原理 — PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。 3 . PVD镀膜膜层的特点 — 采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。 4. 和真空蒸发镀膜真空溅射镀膜相比较,PVD离子镀膜具有如下优点: ① 膜层与工件表面的结合力强,更加持久和耐磨 ② 离子的绕射性能好,能够镀形状复杂的工件 ③ 膜层沉积速率快,生产效率高 ④ 可镀膜层种类广泛 ⑤ 膜层性能稳定、*性高(获得FDA认证,可植入人体) ■ 美国标准锁芯:采用原版进口机械模具冲压成型,机构紧凑,机械联动性好,开启畅顺。采用2mm钢板,保证开启50万次以上。根据恒力传递原理,双齿轮传动结构,保证了传动时受力均匀,在使用时较大极限地将力传递到开锁机构上,从而获得开启时的手感轻巧和灵敏。斜舌采用导轨式定位运动,反锁大方舌采用斜坡式设计,强度和可靠性增强了五倍,从而使锁芯的整体使用寿命和*性得到了有效地保证。采用国际标准五锁舌,具防撬保险舌和室内反锁大方舌,具机械钥匙应急开门